Alta Moda 4.0: La Tecnologia di Spazio Chirale in passerella al Fashion Graduate Italia di Milano
Spazio Chirale News • 30 ottobre, 2018
Venerdì 26 ottobre, nell’ambito dell’evento Fashion Graduate Italia 2018, che si è svolto presso BASE a Milano, hanno sfilato in passerella i lavori degli allievi del Master in Alta Moda dell’Accademia di Costume e Moda di Roma, considerata al 3° posto nel mondo per questo livello di studi.
L’intera collezione è stata accolta in modo molto positivo dal pubblico e soprattutto dalla critica specializzata, e nei giorni scorsi si sono susseguiti una serie di articoli sui portali web più importanti del settore, da Vogue Talents a The Fashion Propellant il cui articolo dedicato all’Accademia Romana è possibile leggerlo a questo link.
L’Evento di Milano è stato in qualche modo un debutto anche per Chirale, che già da alcuni anni è sponsor del Talents di Alta Roma dove sfilano le collezioni degli allievi del corso triennale.
Infatti, quest’anno abbiamo selezionato e sponsorizzato alcuni allievi del corso di livello Master, offrendo loro la possibilità di realizzare nello Spazio Chirale di Garbatella accessori e parte degli abiti delle loro collezioni per il Final Work, mettendo a disposizione le tecnologie del nostro Fab Lab, materiali innovativi e il nostro know-how sui processi di lavorazione, coinvolgendo anche partner del calibro di Reschimica e Roland DG.
La costante ricerca nell’innovazione di processo e nella sperimentazione di nuove tecnologie della nostra Divisione Fashion Tech, è stata uno degli elementi che hanno consentito a questi giovani talenti di esprimere al meglio la propria creatività, portando in passerella collezioni che si sono distinte per carattere e spirito di innovazione, suscitando l’attenzione della critica ma anche dei numerosi talent scout delle più importanti maison di Alta Moda presenti all’evento.
Nella galleria di immagini che potete scorrere qui sotto, alcuni momenti del making all’interno dello Spazio Chirale, della sfilata a BASE Milano e del backstage subito al termine dell’evento.